第一六六七章 浸没式光刻机面世(3/4)

光刻机相比，从工程角度看，并不难完成，

    邓国辉和钱富强都担心ASML赶在BSEC的前面发布研发成功浸没式光刻机，但一想到孙董事长旗下公司是ASML的第二大股东，就放下心来。

    5月28日，GCA EUV光刻机公司对外公开宣布，经过二年多的潜心研发，EUV光刻机的核心部件EUV激光器研制成功，并通过专家组的鉴定，并申请了国际发明专利，并向媒体展示了一台EUV激光器和一台EUV光刻机原型机。

    EUV激光器获取EUV光源的办法是将二氧化碳激光照射在锡等靶材上，激发出13.5nm的光子，作为光刻机光源。

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    EUV激光器和EUV光刻机原型机在全球引起极大的轰动，阻碍全球半导体产业发展的技术瓶颈被美国科学家攻克。

    GCA同时宣布，GCA EUV光刻机的量产还需要很长的时间。

    得到消息的魏建国、邓国辉和钱富强都知道BSEC公开推出浸没式光刻机不远了。

    工程院院士候选人不受理个人申请，需要通过院士或有关学术团体提名，也可以同时通过以上两种渠道提名。

    钱富强研究员在全球顶尖光刻机期刊上发表了30多篇专业论文，在全球光刻机光源行业具有极高的威望，主持研发成功的浸没式光刻机是全球首创，国际领先技术，具有百亿美元的市场价值。

    京城半导体集团拥有4名光刻机专业顶尖的院士。

    邓国辉院士担任光刻机协会会长，还担任国家光刻机专家组主任委员，欧阳明院士、陈伟长院士和夏季常院士担任国家光刻机专家组副主任委员，钱富强研究员担任光刻机协会秘书长。

    浸没式光刻机经过专家组鉴定只是走程序。

    “邓总，马上组织光刻机专家组成员鉴定，鉴定通过后，申请公司发明专利。”

    “好的，董事长！”

    魏建国知道浸没式光刻机的来龙去脉，一直保守秘密。